熱電廠激光氨逃逸在線監(jiān)測(cè)設(shè)備包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)；紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過(guò)對(duì)連續(xù)光譜做算法分析，可同時(shí)測(cè)量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。

　　熱電廠激光氨逃逸在線監(jiān)測(cè)設(shè)備的特點(diǎn)：

　　1、抽取式，無(wú)需對(duì)光，不受溫度變化導(dǎo)致煙道變形的影響；

　　2、采用激光光譜吸收法對(duì)氨進(jìn)行監(jiān)測(cè)，安裝簡(jiǎn)單，維護(hù)量低；

　　3、可隨時(shí)通入標(biāo)氣進(jìn)行驗(yàn)證標(biāo)定，測(cè)量精度高；

　　4、根據(jù)環(huán)保要求，可從取樣探頭通入標(biāo)準(zhǔn)氣，實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)標(biāo)定；

　　5、整個(gè)系統(tǒng)采用防腐設(shè)計(jì)，保證系統(tǒng)長(zhǎng)期可靠的運(yùn)行；

　　6、從探頭到分析儀全程加熱，無(wú)吸附、無(wú)冷凝。整個(gè)采樣過(guò)程伴熱190℃以上，防止采樣過(guò)程對(duì)NH3產(chǎn)生吸附，保證了系統(tǒng)測(cè)量的準(zhǔn)確性；

　　7、有效的防堵措施，采用高壓高頻吹掃方式對(duì)探頭進(jìn)行清洗（反吹），防止煙氣污染分析部件；

　　8、因使用與NH3吸收波長(zhǎng)相匹配的近紅外半導(dǎo)體激光，測(cè)量精度高，不受背景氣體交叉干擾。
 

　　氨逃逸的典型應(yīng)用：

　　燃煤發(fā)電廠，鋁廠，鋼鐵廠，冶煉廠，玻璃廠，垃圾發(fā)電廠，水泥廠，化工廠等SCR或SNCR脫銷(xiāo)裝置的氨氣逃逸排放監(jiān)測(cè)和過(guò)程控制。

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡(jiǎn)介

    本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：

    系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后，電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、，兩通球閥、二級(jí)過(guò)濾器進(jìn)入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術(shù)（TDLAS）對(duì)氣體進(jìn)行分析，得到NH3的濃度（高溫?zé)釢穹ǎ?，后排空?/span>

    系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零，此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路，校準(zhǔn)電磁閥打開(kāi)，在引流泵的作用下，環(huán)境空氣經(jīng)過(guò)濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室，對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃，吹掃干凈后，對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零；系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹，此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開(kāi)，系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開(kāi)或關(guān)，實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過(guò)濾器的反吹。

五、氨逃逸系統(tǒng)取樣及機(jī)箱

取樣探頭

    裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實(shí)施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續(xù)采集。示意圖如下：

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